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環(huán)保型銅和鋁表面的電化學(xué)拋光

2016/3/15 11:14:26      點(diǎn)擊:
      電化學(xué)拋光具有拋光效果好、效率高等特點(diǎn),尤其對(duì)于形狀復(fù)雜的工件來講,是一種很好很有效的表面處理方法,己在工業(yè)上得到了廣泛的應(yīng)用。然而現(xiàn)有鋁、銅的電化學(xué)拋光液存在拋光效果差、成本高、污染環(huán)境等狀況。針對(duì)這一實(shí)際,本文采用電化學(xué)極化的方法,通過正交試驗(yàn)對(duì)鋁、銅的電化學(xué)拋光液及工藝進(jìn)行研究。成功研制出了拋光效果好、速度快、無污染、低成本的電化學(xué)拋光液配方及拋光工藝參數(shù)。利用、等手段分析了試樣拋光后的表面形貌及元素組成,通過顯微硬度計(jì)、恒電位儀等設(shè)備分析拋光前后顯微硬度和耐蝕性的變化,同時(shí)研究了鋁、銅電化學(xué)拋光液各成分以及拋光工藝參數(shù)對(duì)拋光效果的影響。
      通過試驗(yàn)獲得鋁的電化學(xué)拋光最佳配方為氫氧化鈉16克/升、碳酸鈉100克/升、磷酸三鈉65克/升、草酸4克/升、酒石酸鈉2克/升、EDTA-2Na 6克/升,拋光的工藝參數(shù)為電流密度44A/Dm2、拋光溫度80℃、拋光時(shí)間30min、攪拌250r/min。采用該配方和工藝參數(shù)進(jìn)行電化學(xué)拋光后的鋁試樣表面粗糙度可達(dá)到0.05um,表面光澤度達(dá)到88.5%,表面顯微硬度由拋光前的64.5Hv降低至36.5Hv,拋光后試樣耐蝕性增強(qiáng),自腐蝕電位由-0.8V升高到-0.7V銅的電化學(xué)拋光最佳配方為磷酸850ml/L、乙醇90ml/L、苯并三氮唑6克/升、乳酸60ml/L、乙酸胺3克/升,拋光的工藝參數(shù)為電流密度22A/dm2“、拋光溫度40℃、拋光時(shí)間20min、攪拌250r/min。采用該配方和工藝參數(shù)進(jìn)行電化學(xué)拋光后的銅試樣表面粗糙度達(dá)到0.04um,表面光澤度達(dá)到85.1,顯微硬度由拋光前的167.5HV降低至109.7HV,拋光后試樣耐蝕性增強(qiáng),自腐蝕電位由-0.05V升高至0.05V。